本次网络研讨会:商业逻辑器件中的ALD/ALE工艺

市售逻辑设备中的ALD / ALE过程

2018年,介绍了新一代逻辑产品,以其10nm代微处理器的英特尔为单行的FinFET晶体管,其次是TSMC和三星,与他们的7个NM节点设备。

在原子层配置/原子层蚀刻(ALD / ALE)过程上的该呈现检查了我们在这些逻辑技术的演变期间看到的一些不同结构,特别是最新的7nm和10nm器件。我们还讨论了通过逆向工程观察到的ALD / ALE技术的几个历史应用,并且我们突出了ALD / ALE进程在高级逻辑设备中的重要性。raybet炉石传说在许多情况下,如果没有实现ALD / ALE,该技术就无法提前。

拉杰什•克里

拉杰什•克里

高级分析师

Rajesh Krishnamurthy是一家基于加拿大渥太华的靠近工程公司的TechInsights高级分析师。raybet炉石传说TechInsights分析了广泛的设备,使Rajesh在半导体生产现实世界中概述了什么技术。

Rajesh于1998年毕业于加拿大西安大略大学,获得材料工程博士学位。Rajesh有超过20年的分析师经验,专注于半导体工艺开发,半导体材料和器件的研发。他于2006年加入TechInsights团队。

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这是在2020年9月9日星期三的情况下发生的...

网络研讨会
  • 日本标准时间下午2点

在市售逻辑设备网络研讨会中的ALD / ALE过程

该网络研讨会将于2020年9月9日发生

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