网络研讨会:商用逻辑器件的ALD/ALE流程

在市售逻辑器件ALD / ALE过程

2018锯引入新一代的逻辑产品设有由英特尔与它们为10nm代微处理器,随后TSMC和三星朝向年底与其7nm的节点设备的标题的finFET晶体管。

在原子层沉积/原子层本演示蚀刻(ALD / ALE)过程检查一些我们这些逻辑技术的进化过程中已经看到,不同结构的,特别是最新的7nm至10nm的器件。我们还讨论已通过反向工程观察ALD / ALE技术的几个历史应用,以及我们强调ALD / ALE工艺先进逻辑器件的重要性。raybet炉石传说在许多情况下,该技术不能拥有先进的无ALD / ALE的实现。

拉杰什•克里

拉杰什•克里

高级分析师

Rajesh Krishnamurthy是加拿大渥太华一家逆向工程公司TechInsights的高级分析师。raybet炉石传说TechInsights分析了广泛的设备,为Rajesh提供了一个独特的概述,使什么技术进入了半导体生产的现实世界。

拉杰什于1998年毕业于加拿大西安大略大学,获材料工程博士学位。Rajesh拥有超过20年的分析师工作经验,专注于半导体工艺开发,以及半导体材料和器件的研发。2006年,他加入了TechInsights团队。

现在免费注册!

它的发生星期三2020年8月26日在...

网络研讨会
  • 上午11点太平洋
  • 12点中心
  • 下午1点山
  • 下午2点东

在市售逻辑器件网络研讨会ALD / ALE过程

该研讨会将发生2020年8月26日

现在点这里认领你的位置

保持最新从TechInsights的最新新闻和更新