内存- NAND & DRAM订阅

量身定制的内存分析,以满足您的需求

巨大的上前研发投资要求客户具有最新和准确的竞争情报

我们的分析可以量化未知信息,帮助您做出明智的决定。我们可以确定将先进的存储器引入市场的成本,我们研究潜在的市场挑战,以帮助您确定您的风险是什么,我们帮助您确定消除风险的策略。

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内存订阅

可用的内存- NAND & DRAM订阅

已经开发了技术知识存储器,以根据您的行业和角色提供您需求的重点技术智能。

DRAM功能分析

DRAM功能分析

包括:

  • 执行摘要支持图像集
    • 工艺节点和铸造标识
    • 临界尺寸
    • 功能块的总结
    • 堆叠光学顶部金属和多模照片交付在CircuitVision。包括校准测量和注释工具
    • 扫描电镜横断面和斜面成像
    • 13 - 15报告/年

DRAM: SWD和感测放大器晶体管特性

DRAM: SWD和感测放大器晶体管特性

包括:

  • 晶体管特性报告(TCR)
    • IOFF与ION、IOFF与ID、LIN的通用曲线由
      • 5个NMOS和5个PMOS子字线驱动器晶体管,跨越多个VDD在85°C
      • 5个NMOS和5个PMOS感测放大器接收器,在85°C的多个VDD上
    • 对于每个通用曲线数据点
      • 晶体管特性:我D,, 一世D,, 一世离开,V.T,& VT,ΔVGS., G、SS、DIBL
      • 输出特性
  • 分析报道
    • 4报告/年
    • 趋势分析
    • 4小时支持

DRAM外围设计(MDP)

DRAM外围设计(MDP):感测放大器,子字数驱动程序

包括:

  • 分析师对关键设备指标的简要总结
    • 电路识别放大器示意图
    • 子字线驱动程序的电路示意图
    • 延迟DRAM检测放大器的详细堆叠的SEM图像和在电路中传送的子字线驱动器。包括校准测量和注释工具
    • ~ 4报告/年

DRAM:电路分析

DRAM:电路分析

包括:

  • 完整的电路分析
    • 1 -内存阵列和外设
    • 2 -地址路径
    • 3 -数据路径
    • 4 - 控制块,配置和测试块
    • 5 -电压发生器系统
  • 分析报道
    • 2 /年

与非功能分析

与非功能分析

包括:

  • 分析报道
    • 执行摘要支持图像集
      • 工艺节点和铸造识别
      • 临界尺寸
      • 功能块的总结
      • 堆叠光学顶部金属和多模照片交付在CircutVision,其中包括校准的测量工具
      • SEM横断面影像
    • 13 - 15报告/年

NAND外围设计(MDP)

NAND外围设计(MDP):页缓冲区,字线驱动程序

包括:

  • 分析师对关键设备指标的简要总结
    • 一页缓冲器的电路原理图:译码器、开关和控制器
    • 一字线驱动电路原理图:解码器和开关
    • CircuitVision提供的斜面NAND页缓冲区和字线驱动程序的详细堆叠平面视图SEM图像。CircuitVision包括校准的测量和注释工具
    • ~ 4报告/年

NAND:电路分析

NAND:电路分析

包括:

  • 完整的电路分析
    • 1 -内存阵列和外设
    • 2 -地址路径
    • 3 -数据路径
    • 4 - 控制块,配置和测试块
    • 5 -电压发生器系统
  • 分析报道
    • 2 /年

NAND内部波形分析

NAND内部波形分析

这个通道检查在程序、读和擦除周期中使用的NAND存储单元的波形。

  • 在12个月内提供8份报告以及一个在线研讨会
  • 提供波形摘要PDF和原始波形.sht文件,使客户能够执行进一步的分析和测量

先进工艺

先进工艺

包括:

  • Advanced Memory Essentials (AME)
    • 专注于前沿的NAND和DRAM存储技术
    • 执行摘要支持大型图像集
    • 扫描电镜横断面和斜面成像
    • 透射电子能谱仪的截面分析
    • 8报告/年
  • 分析报道
    • 技术趋势/路线图技术因素
    • 设计技术交互分析
    • 过程集成的详细说明
    • 下一个节点的预测
    • 3个简报/年
    • 趋势分析
    • 预测
    • 1年度研讨会
    • 4小时支持

流程流

流程流

*需要高级流程订阅
包括:

  • 过程流程分析(PFA)
    • 显示过程,体系结构,掩码列表和集成级流程步骤的电子表格
    • 8内存/年
  • 过程流全仿真(PFF)
    • PFA内容可能会更新
    • 布局GDS完全分解为流程层
    • 三维仿真
    • Synopsys Input (Route-Level Deck)*
      *需要Synopsys许可证来查看和修改
    • 6记忆/年
  • 分析报道
    • Cell Design技术交互分析
    • 详细说明从晶圆导入到晶圆出的工艺整合
    • 工艺步骤、材料、设备类型、单元工艺
    • 扫描电镜和透射电镜横断面和俯视图图像
    • 层注释,特定过程模块,假设
    • 趋势分析
    • + 4小时的支持

NAND晶体管特性

NAND晶体管特性

包括:

  • 每年分析4台NAND器件
  • 9种类型的晶体管,每个NAND设备为85°C:

    TR表征
    类别 目标Tr.
    核心 PGBUF 1 PB LV Tr. (NMOS)[1]
    2 PB LV Tr. (PMOS)
    3. Pb HV TR。(BLSLT)
    4 Pb HV TR。(blgidl)
    XDEC 5 通过tr。
    Perl I / O 6 瘦NMOS (Output Drv.)[2]
    7 Thin PMOS (Output Drv.)[2]
    模拟HV(由XDEC测量) 8 HVP.
    9 HVD.
    [1]在感应闩上测量
    [2]如果NAND是基于Dgox的,中N/PMOS

  • 4报告/年
  • 趋势分析
  • 4小时支持

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