量身定制的内存分析,以满足您的需求
巨大的上前研发投资要求客户具有最新和准确的竞争情报
我们的分析可以量化未知信息,帮助您做出明智的决定。我们可以确定将先进的存储器引入市场的成本,我们研究潜在的市场挑战,以帮助您确定您的风险是什么,我们帮助您确定消除风险的策略。
可用的内存- NAND & DRAM订阅
已经开发了技术知识存储器,以根据您的行业和角色提供您需求的重点技术智能。
DRAM功能分析
包括:
- 执行摘要支持图像集
- 工艺节点和铸造标识
- 临界尺寸
- 功能块的总结
- 堆叠光学顶部金属和多模照片交付在CircuitVision。包括校准测量和注释工具
- 扫描电镜横断面和斜面成像
- 13 - 15报告/年
DRAM: SWD和感测放大器晶体管特性
包括:
- 晶体管特性报告(TCR)
- IOFF与ION、IOFF与ID、LIN的通用曲线由
- 5个NMOS和5个PMOS子字线驱动器晶体管,跨越多个VDD在85°C
- 5个NMOS和5个PMOS感测放大器接收器,在85°C的多个VDD上
- 对于每个通用曲线数据点
- 晶体管特性:我D,坐, 一世D,林, 一世离开,V.T,林& VT,坐ΔVGS., G米、SS、DIBL
- 输出特性
- IOFF与ION、IOFF与ID、LIN的通用曲线由
- 分析报道
- 4报告/年
- 趋势分析
- 4小时支持
与非功能分析
包括:
- 分析报道
- 执行摘要支持图像集
- 工艺节点和铸造识别
- 临界尺寸
- 功能块的总结
- 堆叠光学顶部金属和多模照片交付在CircutVision,其中包括校准的测量工具
- SEM横断面影像
- 13 - 15报告/年
- 执行摘要支持图像集
NAND内部波形分析
这个通道检查在程序、读和擦除周期中使用的NAND存储单元的波形。
- 在12个月内提供8份报告以及一个在线研讨会
- 提供波形摘要PDF和原始波形.sht文件,使客户能够执行进一步的分析和测量
流程流
*需要高级流程订阅
包括:
- 过程流程分析(PFA)
- 显示过程,体系结构,掩码列表和集成级流程步骤的电子表格
- 8内存/年
- 过程流全仿真(PFF)
- PFA内容可能会更新
- 布局GDS完全分解为流程层
- 三维仿真
- Synopsys Input (Route-Level Deck)*
*需要Synopsys许可证来查看和修改 - 6记忆/年
- 分析报道
- Cell Design技术交互分析
- 详细说明从晶圆导入到晶圆出的工艺整合
- 工艺步骤、材料、设备类型、单元工艺
- 扫描电镜和透射电镜横断面和俯视图图像
- 层注释,特定过程模块,假设
- 趋势分析
- + 4小时的支持
NAND晶体管特性
包括:
- 每年分析4台NAND器件
- 9种类型的晶体管,每个NAND设备为85°C:
TR表征 类别 目标Tr. 核心 PGBUF 1 PB LV Tr. (NMOS)[1] 2 PB LV Tr. (PMOS) 3. Pb HV TR。(BLSLT) 4 Pb HV TR。(blgidl) XDEC 5 通过tr。 Perl I / O 6 瘦NMOS (Output Drv.)[2] 7 Thin PMOS (Output Drv.)[2] 模拟HV(由XDEC测量) 8 HVP. 9 HVD.
[2]如果NAND是基于Dgox的,中N/PMOS - 4报告/年
- 趋势分析
- 4小时支持