三星64L 3D V-NAND

发布时间:2018年1月17日

三星64L 3D V-NAND

三星64L 3D V-NAND

三星电子在2017年1月面向关键IT客户推出了64L 3D V-NAND解决方案,并在6月为扩大普通市场而增加了产量。

创新包括以下亮点:

  • 垂直NAND电池结构,71门,20nm BL半节距
  • 一个NAND字符串配置可能有64个字行,4个dwl, 2个字符串选择行和1个接地选择行
  • 共源线之间的9个通道孔集成,包括1个假孔
  • 用于电荷陷阱层和隧道氧化物的叠层沉积
  • 面膜设计更新,以进行WL垫修剪
  • X-dec上的中压晶体管而不是低压晶体管

这个装置引起我们注意的原因有很多,我们对此进行了大量的分析。我们正在提供以下定义的关于三星64L 3D V-NAND的报告,以及通过我们的各种订阅产品和工具提供的信息。

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