SK hynix 128L 3D PUC NAND (4D NAND)

SK hynix 128L 3D PUC NAND (4D NAND)

SK hynix发布了世界上第一个128层(128L) 3D NAND,他们称之为4D NAND。这是他们使用外围单元(PUC)架构构建的第二代NAND;第一个是他们的96L NAND。

在PUC架构中,外围电路堆叠在电池下,导致3D NAND位密度更高,提高性能和容量。这种方法与微米和英特尔的CUA(CMOS电路在单元阵列下)和YMTC的X架(其中外围电路和NAND阵列分别处理,然后是混合粘合)。

SK hynix 128L 3D PUC NAND (4D NAND)分析

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根据我们早期对该新技术的分析,与之前SK hynix 72L/76L P-BiCS和SK hynix 96L PUC相比,我们观察到以下情况:

SK hynix 72L/76L p - bic sk hynix 96l puc
(4D NAND 1英石将军)
SK Hynix 128L PUC
(4D NAND 2nd将军)
3d nand ver。 V4 V5 V6
#栈 2 2 2
#堆积的总盖茨 82/86
(不含pcg)
115. 147.
#总活动WLS 72/76 96 128.
#选择器 3个SGSs + 3个SGDs 7 SGSs + 3 SGDs 7 SGSs + 3 SGDs
垂直电池效率
(vce)1
87.8%/ 88.4% 83.5% 87.1%
位密度 4.30 Gb /毫米2 6.30 Gb /毫米2 8.15 GB / mm2(预期的)

1.VCE: % of # active cell among total gates, (# active WLs)/(#total gates)x100%

  • 第一个。4D NAND PUC 96L产品(V5)在硅源板上显示了115个栅极
  • 第2代PUC 128L产品(V6)总共使用147个闸,可能包括9个哑字线(DWLs), 7个选择闸源侧(SGS)和3个选择闸漏侧(SGD)
  • 这意味着垂直电池效率提高到87.1%,TLC芯片的内存位密度预计约为8.15 Gb/mm2

通过层数的增加(即76L到96L,现在又到128L),比特密度的增加正在推动技术边界的发展,毫无疑问,这将使竞争保持在他们的高度。位密度的增加也会影响到NAND内存设计的其他方面,这将使从头开始解决问题变得更具挑战性(即没有公正的第三方洞察)。

TechInsights希望在未来几个月内从所有主要制造商中看到〜128L产品。我们期待分析和比较不同的解决方案。

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